اطلاعات تکمیلی
مواد:	اهداف پاشش استوانه ای استوانه ای تیتانیوم	روند:	فشار دادن CIP ، HIP
اندازه:	سفارشی	کاربرد:	سیستم پوشش PVD
شکل:	گرد ، صفحه ، لوله	اندازه دانه:	اندازه دانه خوب ، تراکم خوب
خلوص::	99.5 ，， 99。95	تراکم:	4.52g / cm3

ترکیب بندی	Ti
خلوص	CP درجه 2 (99.5٪) ، CP درجه 1 (99.7) ، 3N5 (99.95٪) ، 4N (99.99٪) ، 4N5 (99.995٪)
تراکم	4.51 گرم در سانتی متر مکعب
اندازه های دانه	<50 میکرون یا در صورت درخواست
فرایندهای ساخت	ذوب خلاuum ، جعل ، اکسترود کردن ، ماشینکاری
شکل	مستقیم ، استخوان سگ
انواع پایان	SCI ، SRF ، DSF ، RFF ، WFF ، VA ، ثابت شدن GPI ، شیار مارپیچ ، سفارشی
سطح	Ra 1.6 میکرون یا در صورت درخواست

هدف پاشش مگنترون ، / هدف چرخان (هدف لوله)
مورد	خلوص	تراکم	شکل	ابعاد (میلی متر)
هدف TiAl	2N8-4N	3.6-4.2	لوله ، دیسک ، صفحه	OD70 x T 7 x L دیگر به صورت سفارشی
هدف Cr	2N7-4N	7.19	لوله ، دیسک ، صفحه	OD80 X T8 XL دیگر به صورت سفارشی
هدف Ti	2N8-4N	4.51	لوله ، دیسک ، صفحه	OD127 x ID105 x L OD219 x ID194 x L OD300 x ID155 x L دیگر به صورت سفارشی
هدف Zr	2N5-4N	6.5	لوله ، دیسک ، صفحه	دیگر به صورت سفارشی
هدف آل	4N-5N	2.8	لوله ، دیسک ، صفحه
هدف نیکل	3N-4N	8.9	لوله ، دیسک ، صفحه
هدف مس (مس )	3N-4N5	8.92	لوله ، دیسک ، صفحه
هدف مس (برنج)	3N-4N5	8.92	لوله ، دیسک ، صفحه
هدف تا	3N5-4N	16.68	لوله ، دیسک ، صفحه	OD146xID136x299.67 (3 عدد)

اهداف پاشش استوانه ای تیتانیوم ، رسوب فیلم نازک سیلندر چرخان تیتانیوم ، مگنترون

اهداف لکه دار فلزی