اطلاعات تکمیلی
مواد:	کروم، کروم	روند:	CIP، فشار دادن HIP
اندازه:	سفارشی	کاربرد:	پوشش PVD،
تراکم:	7.19 گرم بر سانتی متر مکعب	شکل:	هدف گرد، صفحه، لوله کندوپاش
اندازه دانه:	اندازه دانه ریز، چگالی خوب	خلوص:	99.5٪، 99.9٪، 99.95٪
برجسته:	اهداف کندوپاش صفحه کروم خالص , هدف کندوپاش با مقاومت در برابر خوردگی بالا , هدف کندوپاش 7.19 گرم بر سانتی متر مکعب

توضیحات محصول

هدف کندوپاش صفحه کروم

ماده هدف کندوپاش صفحه کروم فلز براق سفید نقره ای است، کروم خالص دارای شکل پذیری است و کروم حاوی ناخالصی ها سخت و شکننده است.چگالی 7.19 گرم بر سانتی متر مکعب است.محلول در محلول قلیایی قویکروم مقاومت به خوردگی بالایی دارد و اکسیداسیون در هوا حتی در حالت گرمای قرمز کند است.نامحلول در آب.محافظت با آبکاری روی فلز

شرح

کرومهدف کندوپاش،کرومهدف در اندازه های مختلف موجود هستند

فرآیند پخت سنتی هدف کندوپاش کروم با خلوص بالا که توسط متالورژی پودر تهیه شده است، تجزیه و تحلیل و بهینه شده است.نتایج تجربی نشان می دهد که چگالی هدف را می توان به طور موثر با پردازش هدف کندوپاش با "پرس قالب + تف جوشی" یا "پرس ایزواستاتیک سرد + تف جوشی" و کنترل دمای پخت به طور معقول تضمین کرد.

درجات:	هدف کروم اسپاترینگ
	خلوص: 99.5٪، 99.9٪، 99.95٪
آلیاژ کروم	AlCr، CrAl، CrSi، TiCr و غیره
تراکم:	7.19 گرم بر سانتی متر مکعب
شکل:	شکل گرد، شکل لوله و شکل صفحه.

اندازه ها:

اهداف کندوپاش صفحه:

ضخامت: 0.04 تا 1.40 اینچ (1.0 تا 35 میلی متر).

عرض حداکثر 20 اینچ (50 تا 500 میلی متر).

طول: 3.9 اینچ تا 6.56 فوت (100-2000 میلی متر)

سایزهای دیگر طبق درخواست

اهداف کندوپاش سیلندر:

3.94 دی.x 1.58 اینچ (100 قطر x 40 میلی‌متر)

2.56 دی.x 1.58 اینچ (65 قطر x 40 میلی‌متر)

یا اندازه های دیگر 63 * 32 میلی متر طبق درخواست.

اهداف کندوپاش لوله:

2.76 OD x 0.28 WT x 39.4 اینچ (70 OD x 7 WT x 1000mm L)

3.46 OD x 0.39 WT x 48.4 اینچ (88 OD x 10 WT x 1230mm L)

سایزهای دیگر طبق درخواست

تأثیر روش‌های مختلف فرآوری بر دانسیته تف جوشی هدف کروم.در فرآیند پرس مکانیکی، پرس دو طرفه بدون هیچ گونه عامل قالب‌گیری و اکسید زدا اتخاذ می‌شود.چگالی هدف حلقه کروم 78٪ - 80٪ با فشار مکانیکی + تف جوشی خلاء است.چگالی هدف هدف پاشش صفحه کروم بیش از 82٪ با فشار ایزواستاتیک سرد + تف جوشی خلاء است.پس از نورد، چگالی هدف صفحه کروم به 90٪ - 95٪ افزایش می یابد.چگالی هدف کندوپاش آلیاژ کروم با پرس گرم بیش از 98 درصد است.با بهینه سازی زمان و دمای پخت، هزینه تف جوشی هدف حلقه کروم تا حد زیادی کاهش می یابد.

کاربرد:

1. خلوص کروم فلزی 99٪ - 99.5٪: مورد استفاده برای افزودنی های آلیاژی، سرمت، متالورژی پودر، آلیاژ سخت، ابزار الماس، محصولات الماس، آلیاژ الکتریکی، سیم هسته شار، مواد جوشکاری، مواد افزودنی آلیاژ آلومینیوم، مواد پاشش حرارتی، دمای بالا و مواد مقاوم در برابر سایش بالا، مواد پوشش نوری، محصولات شیمیایی و غیره.

2. خلوص کروم فلزی 99.5٪ - 99.9٪: برای رسوب بخار فیزیکی، آلیاژ با دمای بالا، فشار ایزواستاتیک گرم مواد خام مورد نظر کروم، سرمت، افزودن آلیاژ سخت، مواد جوشکاری، ابزارهای الماس، روکش لیزری، پاشش و غیره استفاده می شود.

3. خلوص کروم فلزی بیش از 99.9٪ است.برای مواد هوافضا، توربین های بخار، اهداف پوشش و غیره استفاده می شود.

تایپ کنید	کاربرد	آلیاژ اصلی	درخواست
نیمه هادی	تهیه مواد هسته برای مدارهای مجتمع	W. تنگستن تیتانیوم (WTI)، Ti، Ta، آلیاژ آل، مس و غیره، با خلوص بیش از 4N یا 5N	بالاترین الزامات فنی، فلز با خلوص فوق العاده بالا، اندازه دقت بالا، ادغام بالا
صفحه نمایش	تکنولوژی Sputtering یکنواختی تولید فیلم را تضمین می کند، بهره وری را بهبود می بخشد و هزینه را کاهش می دهد	هدف نیوبیم، هدف سیلیکون، هدف کروم، هدف مولیبدن، هدف MoNb، هدف Al، هدف آلیاژ آلومینیوم، هدف مس، هدف آلیاژ مس	الزامات فنی بالا، مواد با خلوص بالا، سطح مواد بزرگ و درجه یکنواختی بالا
تزئین کنید	برای پوشش روی سطح محصولات به منظور زیباسازی اثر مقاومت در برابر سایش و مقاومت در برابر خوردگی استفاده می شود	هدف کروم، هدف تیتانیوم، زیرکونیوم (Zr)، نیکل، تنگستن، آلومینیوم تیتانیوم، CRSI، CrTi، cralzr، هدف فولاد ضد زنگ	عمدتا برای دکوراسیون، صرفه جویی در انرژی و غیره استفاده می شود
ابزار سازی	تقویت سطح ابزارها و قالب ها، بهبود عمر مفید و کیفیت قطعات ساخته شده	هدف TiAl، هدف Cr Al، هدف کروم، هدف Ti، قلع، تیک، Al203 و غیره	الزامات عملکرد بالا و عمر طولانی
فتوولتائیک خورشیدی	فناوری لایه نازک پراکنده برای ساخت سلول های خورشیدی لایه نازک نسل چهارم	هدف اکسید آلومینیوم روی، هدف اکسید روی، هدف آلومینیوم روی، هدف مولیبدن، هدف سولفید کادمیوم (CDS)، ایندیم مس گالیوم سلنیوم و غیره	برنامه گسترده
لوازم الکترونیکی	برای مقاومت فیلم و ظرفیت فیلم	هدف NiCr، هدف NiCr، هدف Cr Si، هدف Ta، هدف NiCr Al و غیره	اندازه کوچک، پایداری خوب و ضریب دمای مقاومت کوچک برای دستگاه های الکترونیکی مورد نیاز است
ذخیره سازی اطلاعات	برای ساخت حافظه مغناطیسی	سیrآلیاژهای مبتنی بر Co، بر پایه CO، آهن، آلیاژهای مبتنی بر نیکل	چگالی ذخیره سازی بالا، سرعت انتقال بالا

برچسب:

جزئیات محصول:
محل منبع:	چين
نام تجاری:	JINXING
گواهی:	ISO 9001
شماره مدل:	Chutium Plate پاشیدن Target
پرداخت:
مقدار حداقل تعداد سفارش:	1kg
قیمت:	20～100USD/kg
جزئیات بسته بندی:	مورد تخته سه لا
زمان تحویل:	10 ～ 25 روز کاری
شرایط پرداخت:	اعتبارات اسنادی، D/A، D/P T/T, وسترن یونیون
قابلیت ارائه:	100000kgs / M

اهداف پراکنده بشقاب کروم خالص با مقاومت در برابر خوردگی بالا

اهداف کندوپاش صفحه کروم خالص

هدف کندوپاش با مقاومت در برابر خوردگی بالا

هدف کندوپاش 7.19 گرم بر سانتی متر مکعب

هدف کندوپاش صفحه کروم

اهداف لکه دار فلزی

هدف پاشش تنگستن

اهداف کندوپاش صفحه کروم خالص